化工行业光刻胶系列报告之一：以史为鉴，看半导体材料皇冠上的明珠-200424[31页]

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摘要：

证券研究报告·行业深度报告光刻胶系列报告之一：以史为鉴，看半导体材料皇冠上的明珠全谱及紫外光刻胶：开山之作1950s贝尔实验室开发集成电路的过程中与柯达合作开发了全球首款半导体光刻胶----基于环化橡胶-双叠氮体系的KTFR光刻胶。1957-1972年间，其为半导体工业的发展立下了汗马功劳，直至触及2μm的分辨率极限。Hoechst子公司Kalle在1930s开发的一种印刷材料被贝尔实验室改进后用作下一代光刻胶材料，即重氮萘醌-酚醛树脂体系，该体系一直贯穿了g线/i线光刻胶时代，至今仍在应用。化学放大光刻胶：来自化学家的魔法1980s光刻技术发展到深紫外光刻时，光源强度严重制约了光刻机的晶圆处...

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