光刻胶行业深度：破壁引光，小流成海-210902（44页）

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摘要：

申港证券股份有限公司证券研究报告证券研究报告行业研究深度报告光刻胶行业深度:破壁引光小流成海——电子投资摘要：光刻工艺是集成电路制造中最为关键的工序，是其他步骤能正常进行的先决条件。光刻工艺占整个晶圆制造成本的35%，耗费时间占据整个制造过程的40%~60%。根据SEMI相关行业报告数据，光刻胶全球市场空间约80亿美元，2021至2026年CAGR约为6%。市场空间巨大。光刻胶是半导体材料中技术壁垒高。全球范围内有能力制造符合当下制程要求，并稳定大规模供应的光刻胶制造商主要集中在日本与美国。其中来自日本的日本合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）、信越化学、富士电子、杜邦/Dow、AZ（Mer...

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