掩膜版行业深度报告：光刻蓝本亟待突破，国产替代大有可为-20231104-民生证券-45页

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标签： #证券

摘要：

本公司具备证券投资咨询业务资格，请务必阅读最后一页免责声明证券研究报告1掩膜版行业深度报告光刻蓝本亟待突破，国产替代大有可为2023年11月04日➢掩膜版：电子制造之底片，晶圆光刻之蓝本。掩膜版是微电子制造过程中的图形转移母版，按照制造材料可以分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他（菲林、凸版、干版），按照下游应用领域可以主要分为平板显示掩膜版、半导体掩膜版、触控掩膜版、电路板掩膜版。掩模版对于光刻工艺的重要性不弱于光刻机、光刻胶。在集成电路领域，光掩模的功能类似于传统相机的“底片”，在光刻机、光刻胶的配合下，将光掩模上已设计好的图案，通过曝光和显影等工序转移到衬底的光刻胶上，进行图像复制，从而实现...

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