电子行业深度报告：国产半导体设备研究框架，光刻机、薄膜沉积、刻蚀机、清洗、氧化、离子注入、量测-220519（136页）

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摘要：

分析师：陈杭登记编号：S1220519110008联系人：胡园园证券研究报告2022年5月19日【方正电子·行业深度报告】国产半导体设备研究框架:光刻机、薄膜沉积、刻蚀机、清洗、氧化、离子注入、量测投资要点2n逻辑/存储/功率/三代半扩产，资本支出继续维持高位。2022年往后，内资晶圆厂12吋潜在扩产产能至少155万片/月，支撑3-4年高景气周期。其中中芯国际临港、京城、深圳合计至少24万片/月，存储端合肥长鑫、长江存储各自二期22与20万片待扩，华虹拟回A上市，预计也将继续加码产能扩张。此外，叠加功率、三代半高需求，行业资本支出预计继续高位发展。n供应链安全迫在眉睫，国产替代势在必行。全球半...

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