半导体行业深度分析报告：光刻为半导体设备之巅，冰山峰顶待国产曙光

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摘要：

半导体/行业深度分析报告/2023.02.23请阅读最后一页的重要声明！光刻为半导体设备之巅，冰山峰顶待国产曙光证券研究报告投资评级:看好(维持)最近12月市场表现分析师张益敏SAC证书编号：S0160522070002zhangym02@ctsec.com相关报告1.《细致检测攻坚克难，精准度量引领进步》2022-12-03光刻设备行业报告核心观点光刻是半导体生产中最重要的工艺步骤：光刻是半导体器件制造的最核心步骤，直接决定集成电路的性能和良率。光刻机的核心工艺指标包括：分辨率、聚焦深度、套刻精度、曝光功率及单位时间产能等。主流的光刻机均采用浸没系统、可编程光照、畸变修正、热效应修正、对准...

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