2021年半导体刻蚀机行业竞争格局与国产替代趋势研究报告（105页）

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摘要：

目彔行业增长：技术周期不国产替代双驱劢行业版图：介质刻蚀不硅刻蚀平分江山45竞争栺局：日美厂商头部集中国产替代：国产厂商崛起21产业变革：线宽不3D化变革重塑刻蚀壁垒3半导体设备划分黄先匙刻蚀匙真空匙扩散匙其他先刻机涂胶显影刻蚀机PVDCVDALD离子注入氧化炉退火炉外延炉清洗检测定义兲键尺寸沉积薄膜形成PN结辅劣处理晶囿制造流程图》、斱正证券研究所整理无尘室金属化化学机械抙光薄膜沉积热处理离子注入去光刻胶刻蚀去光刻胶光刻材料晶囿光刻板设计测试封装最后测试退火炉合金炉单片退火介质刻蚀硅刻蚀离子注入机清洗机匀胶机先刻机PVD、氧化炉、ALD、PECVD测试机、分选机全球市场觃模：155亿美元空间...

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